众所周知，在现代科技的各个领域中，美国都要比我们早起步几十年，手中也掌握着大量的专利和技术优势，可以说在很多领域都占据着主导权！比如建设核电站需要用到的C型密封环，美国曾以300万的天价卖给我们，还有手机芯片，我们以前也是用的清一色的高通骁龙，可以说国内市场几乎都被美企垄断了！但随着中国科技的不断发展，如今我们在密封环、芯片和5G等领域已经对美国实现了赶超，正逐渐在补足我们在科技领域的空缺和短板！

然而，中国科技的快速崛起也让美国胆寒，美国很害怕中国会打破自己辛辛苦苦建立起的霸权，所以为了限制我国的发展，美国这几年一直围绕着芯片打压我们，先是大搞实体清单、封锁技术，然后又断供设备和拉拢盟友成立“四方同盟”，企图将中国孤立在全球芯片产业链之外！而在美国制裁我们的这期间，台积电和ASML无疑是两把利刃，一个是全球最大的芯片制造商，一个是最大的光刻机制造商，直接将我们的芯片自研之路锁得死死的！

尤其是光刻机，因为目前所有的半导体芯片几乎都是由光刻机生产的，所以即便我们拥有强大的芯片设计能力，但只要没有先进的光刻机，就无法制造出先进的芯片！那么我们能不能自研光刻机呢？答案是肯定的，我们也一直在走这条路，比如上海微电子就在光刻机领域深耕多年，但如今也只是能够生产出90nm制程的ArF光刻机，和ASML的DUV、EUV光刻机还相差甚远！其实早在多年前ASML高管就曾嘲讽过我们，表示即便是把图纸给我们，中国也造不出光刻机！

虽然这句话很嚣张，但ASML也的确有狂傲的资本，就拿目前最先进的EUV光刻机来说，其重达180吨，零部件更是高达10万多个，而且这些零件都来自于全球5000多家供应厂商，所以想要在短时间内自研EUV光刻机是根本不可能的！不过，好消息是上海微电子目前已经攻克了28nm制程光刻机的核心技术，并且已经通过技术检测和认证，最早今年年底就能正式面世，可以说将ASML的脸都打肿了！

而更让ASML心碎的是，上海微电子刚传来好消息，我国“国防七子”之一的哈工大又宣布了一项重大突破，那就是研发出了可控制谐波倍频的深紫外光源！要知道深紫外光源是光刻机的核心部件，目前市面上的深紫外光源基本都被ASML和美国泛林公司垄断了，所以哈工大这次能够研发出可控制谐波倍频的深紫外光源，无疑是我们在光刻机领域的又一里程碑，因为这次有希望让我们打破ASML和美国的市场垄断！

根据科研人员介绍，哈工大这次研发的深紫外光源实现了波长从266nm到365nm的可控制谐波倍频，并且拥有更出色的强度、功率和密度，关键是拥有更小的尺寸和功耗，即便是ASML的专家对此都极为关注！

其实自从华为被制裁后，我国就对半导体产业极为重视，尤其是芯片和光刻机领域，每年都会给予这些企业和机构大力的扶持，而哈工大在光刻机领域也是频频攻克了核心技术，比如自研了高速超精密激光干涉仪、全球首款极端紫外刻蚀颗粒探测系统和28nm光刻机技术，如今又研发出了深紫外光源，可以说正在逐一打破光刻机的技术壁垒，对我国半导体的发展具有重大意义！

事实上，美国这些年一直围绕着我国的芯片开打，以为这样就能锁死“中国芯”，让我们无法制造出更先进的电子产品。但让拜登傻眼的是，这才制裁三年，我国就在芯片和光刻机领域频频突破，像华为、哈工大、中科院和上海微电子等都在持续发力，一旦我们制造出了28nm或者14nm的光刻机，结合中芯国际的N+2芯片工艺，那么国产5nm，甚至4nm芯片就可能量产了，到那时候美国对我们的封锁就会成为一个天大的笑话！同意的请点赞！